
作者:顺海 来源:原创 发布日期:05-19

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,KC Tech依托化学机械抛光(CMP)技术,推进半导体积层薄膜(BuF)自主化,以应对先进封装微细化工艺挑战。据5月7日行业消息,该公司正承担韩国产业通商资源部国家课题“大尺寸积层薄膜与超微图案工艺开发”,重点研发下一代BuF用CMP平坦化工艺。 BuF是半导体封装中关键绝缘材料,当前市场由日本味
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发布时间:01:30:57